Оборудование для создания и исследования свойств объектов наноэлектроники

Учебное пособие

Освещаются следующие разделы в области создания и исследования объектов наноэлектроники: нанолитография, оптическая литография, УФ-, КУФ-, ЭУФ- диапазоны, литография сканирующими электронными и ионными пучками, оборудование для получения остросфокусированных пучков электронов и ионов, наноимпринтинговая литография, технология наноразмерных структур и методы исследования с помощью сканирующей зондовой микроскопии (СЗМ), оборудование и методики применения СЗМ для технологических целей, технологии изготовления наноструктур с помощью сфокусированного ионного пучка (FIB-технология), технология наноструктурирования, самоформирующиеся 3D-наноструктуры для приборов наноэлектроники и наномеханики.

Кафедра физической электроники

Библиографическая запись:

Чистоедова, И. А. Оборудование для создания и исследования свойств объектов наноэлектроники: Учебное пособие [Электронный ресурс] / И. А. Чистоедова, Т. И. Данилина. — Томск: ТУСУР, 2011. — 98 с. — Режим доступа: https://edu.tusur.ru/publications/547
Год издания: 2011
Количество страниц: 98
Скачиваний: 255
ISBN:   978-5-91191-202-3
УДК:   621.382.049.77.002 (07)

Содержание

ПРЕДИСЛОВИЕ

1. СОЗДАНИЕ УПОРЯДОЧЕННЫХ КВАНТОВЫХ НАНОСТРУКТУР

1.1. Два подхода к изготовлению структур в нанотехнологиях

1.2. Методы получения упорядоченных наноструктур

1.2.1. Эпитаксиальные методы получения наноструктур

1.2.2. ИМПУЛЬСНОЕ ЛАЗЕРНОЕ ОСАЖДЕНИЕ (ИЛО)

1.2.3. Распылительное осаждение

1.2.4. Методы химического осаждения пленок

1.2.5. Химическое осаждение из растворов

1.2.6. Пленки Ленгмюра–Блоджетт (Л-Б)

1.3. Искусственное наноформообразование

1.3.1. Напряженные полупроводниковые гетероструктуры и приготовление из них нанотрубок

1.3.2. Метод изготовления нанотрубок самосворачиванием полупроводниковых гетерослоев

1.3.3. Формирование полупроводниковых и металлических нановолокон и спиралей

2. НАНОЛИТОГРАФИЯ

2.1. Проекционная фотолитография

2.2. Иммерсионная литография КУФ-диапазона

2.3. Установки с преломляющей и отражающей оптиками

2.4. Литография ЭУФ-диапазона

3. ЛИТОГРАФИЯ СКАНИРУЮЩИМИ ЭЛЕКТРОННЫМИ И ИОННЫМИ ПУЧКАМИ

3.1. Электронно-лучевая литография

3.2. SCALPEL

3.3. Применение ЭЛЛ для изготовления структур наноэлектроники

3.4. Ионно-лучевая литография (ИЛЛ)

3.5. Безмасочная литография (direct writing)

4. НАНОИМПРИНТИНГОВАЯ ЛИТОГРАФИЯ

5. СОЗДАНИЕ И ИССЛЕДОВАНИЕ НАНОРАЗМЕРНЫХ СТРУКТУР ЗОНДАМИ СЗМ

5.1. Основные понятия

5.2. Основы сканирующей зондовой микроскопии (СЗМ)

5.2.1. Сканирующая туннельная микроскопия

5.2.2. Технологическое применение СТМ

5.3. Атомно-силовая микроскопия

5.3.1. Основы работы АСМ

5.3.2. Методики работы АСМ

5.3.3. Электросиловая микроскопия

5.3.4. Магнитно-силовая микроскопия

5.3.5. Анализ химсостава

5.3.6. Локальное анодное окисление зондом АСМ

5.3.7. Локальная зарядка поверхности

5.4. СЗМ-нанолитография

5.4.1. Силовая литография (plowing lithography)

5.4.2. Перьевая нанолитография (Dip-pen nanolithography)

5.4.3. Электронно-лучевая СЗМ литография

5.4.4. Ближнепольная литография

5.4.5. Термическая нанолитография

6. ИССЛЕДОВАНИЕ И ИЗГОТОВЛЕНИЕ НАНОСТРУКТУР С ПОМОЩЬЮ СФОКУСИРОВАННОГО ИОННОГО ПУЧКА (FIB-ТЕХНОЛОГИЯ)

6.1. Основы FIB-технологии

6.2. Анализ технологии и топологии ИМС с помощью остросфокусированного ионного пучка

6.3. Воздействие сфокусированным пучком заряженных частиц. FIB-литография

ЛИТЕРАТУРА

ПРИЛОЖЕНИЕ