Физические основы нанотехнологий фотоники и оптоинформатики

Введение ..................................................................................................................5

Тема 1. Введение. Основные определения и физические основы нанотехнологий фотоники. ...6

Занятие 1. Безмасляные вакуумные системы для эпитаксии и их расчет 6

Методические указания ...........................................................................................6

Пример расчета вакуумной системы ......................................................................7

Задание ......................................................................................................................8

Тема 2. Эпитаксия, нанесение металлов и диэлектриков. .................................8

Занятие 1. Расчет параметров формирования нанослоев (скорости, толщины, массопереноса) ........8

Методические указания ...........................................................................................8

Задачи ......................................................................................................................11

Задание ....................................................................................................................12

Занятие 2. Разработка алгоритма работы эпитаксиального вакуумного оборудования ........12

Задание ....................................................................................................................13

Занятие 3. Расчет параметров газофазных реакций, расчет сорбционных и диффузионных процессов ........13

Занятие 4. Расчет электрофизических параметров оборудования для формирования и обработки эпитаксиальных нанослоев .............................15

Методические указания............................................................ 15

Задачи ...............................................................................................15

Задание ............................................................................................16

Тема 3. Методы оптической литографии. Современные технологии оптической литографии: концепции развития, основы нанолитографии, иммерсионная литография, голографическая литография ..............................16

Занятия 1. Решение задач по теме литографии ............................................16

Тема 4. Формирование периодических наноструктур в диэлектрических и полупроводниковых средах с различной размерностью .................................17

Занятие 1. Разработка маршрутной карты для формирования покрытий в вакууме ..............17

Задание ....................................................................................................................18

Занятие 2. Разработка операционных карт техпроцесса .............................18

Задание ....................................................................................................................19

Занятие 3. Расчет параметров технологичности процесса формирования нанослоев............. 19

Методические указания .........................................................................................19

Пример решения задач ...........................................................................................21

Список литературы ..............................................................................................22