Специальные вопросы технологии приборов квантовой и оптической электроники

Введение 6

Тема 1. Процесс получения материалов для приборов квантовой и оптической электроники 7

Занятие 1. Расчет вакуумных систем для формирования приборов квантовой и оптической электроники 7

Методические рекомендации к занятию 7

Задание 10

Тема 2. Кинетика технологического процесса. Межфазные взаимодействия в технологических процессах 11

Занятие 1. Расчет параметров формирования нанослоев (скорости, толщины, массопереноса) 11

Методические указания по изучению темы 11

Задачи по теме 15

Задание для самостоятельного решения 16

Занятие 2. Разработка алгоритма работы вакуумного оборудования 16

Задание 17

Занятие 3. Расчет параметров газофазных реакций, расчет сорбционных и диффузионных процессов 18

Задачи по теме 18

Задание 20

Занятие 4. Составление общей схемы подготовки подложек 20

Задание 20

Тема 3. Вакуумная технология. Электронно-лучевая, ионно-лучевая и плазменная технология 21

Занятие 1. Расчет электрофизических параметров электронно и ионно-лучевого оборудования для формирования и обработки эпитаксиальных нанослоев 21

Методические указания 21

Задачи по теме 21

Задание 22

Тема 4. Специальные вопросы технологии изготовления приборов и устройств квантовой и оптической электроники 22

Занятие 1. Обсуждение конструкторской части индивидуальных работ 22

Методические указания 22

Задание 24

Занятие 2. Расчет параметров технологичности 24

Методические указания 24

Задачи по теме 25

Задание 28

Занятие 3. Решение задач на литографические и термические процессы 28

Задачи по теме 28

Методические указания и подсказки к решению задач 29

Занятие 4. Решение задач на автоматизацию технологических процессов 30

Задачи по теме 30

Методические указания к решению задач 31

Тема 5. Процесс эпитаксиального выращивания структур для приборов квантовой и оптической электроники 33

Занятие 1. Разработка маршрутной карты для формирования эпитаксиальных покрытий в вакууме 33

Задание 33

Занятие 2. Разработка операционных карт 33

Разработка операционных карт формирования оксидных нанослоев на основе цинка 33

Тема 6. Сервисное обслуживание установок эпитаксии 35

Методические указания 35

Рекомендуемая литература 35