Вакуумные и специальные вопросы технологии приборов квантовой и оптической электроники

Учебное пособие для студентов направления «210100.62 – Электроника и наноэлектроника»

В пособии рассматриваются: - физические принципы формирования приборов электроники и наноэлектроники; - основные приемы построения последовательностей технологических операций при формировании и синтезе оптических материалов; - современные технологии, применяемые при производстве приборов электроники и наноэлектроники; - принципиальные схемы последовательностей технологических операций; - оптимальные режимы проведения технологических операций; - анализ достоинств и недостатков известных технологий формирования оптических материалов на элементах электроники и наноэлектроники. Приведены основы конструирования и сервисного обслуживания вакуумных систем.

Кафедра электронных приборов

Библиографическая запись:

Орликов, Л. Н. Вакуумные и специальные вопросы технологии приборов квантовой и оптической электроники: Учебное пособие для студентов направления «210100.62 – Электроника и наноэлектроника» [Электронный ресурс] / Л. Н. Орликов. — Томск: ТУСУР, 2013. — 103 с. — Режим доступа: https://edu.tusur.ru/publications/3436
Автор:   Орликов Л. Н.
Год издания: 2013
Количество страниц: 103
Скачиваний: 44
УДК:   621.387.002

Оглавление (содержание)

1 Вакуумная технология

1.1 Вакуумные системы и установки

1.2 Единицы измерения давления и потока

1.3 Режимы течения газа

1.4 Проводимость и пропускная способность вакуумных коммуникаций

1.5 Основное уравнение вакуумной техники

1.6 Технология получения вакуума

2 Расчет вакуумных систем

2.1 Методика расчета вакуумных систем

2.2 Измерение вакуума

2.3 Методы исследования вакуумных систем на герметичность

3 Подготовка изделий к технологическим операциям

3.1 Источники загрязнений при производстве приборов

3.2 Сорбционные и десорбционные процессы

3.3 Закономерности газовыделения из изделий

3.4 Вакуумная гигиена и очистка материалов

3.5 Ионное травление материалов

4 Пленочная технология

4.1 Назначение и типы пленок

4.2 Методы получения пленок

4.3 Термовакуумное испарение пленок

4.4 Условия, влияющие на формирование пленки при термовакуумном напылении

4.5 Получение пленок равномерной толщины

4.6 Адгезия пленок

4.7 Технология получения высококачественных пленок

4.8 Измерение скорости напыления и толщины пленок

4.9 Методы измерения параметров напыления

4.10 Экспресс методы сравнительного анализа толщины пленок

4.11 Специальные методы нанесения пленок

4.12 Эпитаксия

4.13 Технология формирования рельефа подложки

4.14 Механизмы ориентации и формирования кристаллов при искусственной эпитаксии

4.15 Методы ориентированной кристаллизации пленок

4.16 Перекристаллизация пленок

4.17 Лучевые методы перекристаллизации

4.18 Боковая эпитаксия

4.19 Альтернативные методы создания эпитаксиально подобных структур

4.20 Маркировка эпитаксиальных структур

4.21 МОС - гидридная эпитаксия из металлоорганических соединений

4.22 Молекулярно-лучевая эпитаксия

5 Сертификация технических средств, систем, процессов, оборудования и материалов

6 Разработка инструкций по эксплуатации используемых технического оборудования и программного обеспечения для обслуживающего персонала

6.1 Правила устройства электроустановок

6.2 Инструкция по эксплуатации технического оборудования

6.3 Инструкции по монтажу вакуумных коммуникаций

6.4 Инструкции по сервисному обслуживанию электрооборудования вакуумных установок

6.5 Технология расшифровки процесса молекулярно-лучевой эпитаксии

6.6 Инструкции по поиску негерметичности вакуумных систем

6.7 Инструкции по эксплуатации типовых вакуумных установок с масляными средствами откачки

6.8 Аварийные режимы вакуумного оборудования и методы реанимации режимов

7 Список рекомендуемой литературы