Вакуумно-плазменные методы получения наноструктур

Учебное пособие

Учебное пособие предназначено для подготовки студентов по направлениям 210100 «Электроника и наноэлектроника», 210600 «Нанотехнология», 222900 «Нанотехнологии и микросистемная техника».

Кафедра физической электроники

Библиографическая запись:

Данилина, Т. И. Вакуумно-плазменные методы получения наноструктур: Учебное пособие [Электронный ресурс] / Т. И. Данилина. — Томск: ТУСУР, 2012. — 89 с. — Режим доступа: https://edu.tusur.ru/publications/3871
Автор:   Данилина Т. И.
Год издания: 2012
Количество страниц: 89
Скачиваний: 198

Оглавление (содержание)

Введение

1 Необходимость высокого вакуума при получении наноструктур

1.1 Давление газа при осаждении наноструктур7

1.2 Основное уравнение вакуумной техники

1.3 Режимы течения газов по трубопроводам

1.4 Основные параметры и классификация насосов

2 Механические вакуумные насосы

2.1 Принцип объемной откачки

2.2 Объемные вакуумные насосы с масляным уплотнением

2.3 Молекулярные насосы

2.4 Выбор вакуумных насосов

3 Паромасляные диффузионные насосы

3.1 Принцип откачки

3.2 Параметры паромасляных диффузионных насосов

4 Физико-химические методы получения высокого вакуума

4.1 Хемосорбционная откачка

4.2 Криогенная откачка

4.3 Ионная откачка

4.4 Ионно-сорбционная откачка

5 Методы измерения низких давлений газа

5.1 Общие сведения

5.2 Тепловые вакуумметры

5.3 Электронные ионизационные вакуумметры

5.4 Электронные ионизационные манометрические преобразователи для измерения сверхвысокого вакуума

5.5 Манометрические преобразователи с повышенной чувствительностью и малой мощностью рентгеновского излучения для измерения низких и сверхнизких давлений

6 Практические рекомендации по выбору вакуумных установок для технологических целей

7 Термическое испарение в вакууме

7.1 Формирование молекулярного потока

7.2 Испарение вещества

7.3 Скорость конденсации

7.6 Практические рекомендации

8 Ионно-плазменные методы получения нанослоев

8.1 Ионно-плазменное распыление

8.2 Модель ионного распыления

8.3 Скорость осаждения пленок

8.4 Получение пленок ионно-плазменным распылением

Различные способы ионного и ионно-плазменного осаждения тонких пленок

9 Активируемые плазмой методы получения нанослоев

9.1. Общая характеристика

9.2. Получение тонких металлических пленок методом магнетронного распыления

9.3. Ионное распыление многокомпонентных материалов

9.4. Стимулированное плазмой осаждение тонких слоев диоксида кремния

9.5. Плазмохимическое осаждение нитрида кремния

9.6. Ионно-плазменное нанесение тонких пленок нитрида алюминия

9.7. Плазмохимическое осаждение кремния

9.8. Стимулированное плазмой осаждение металлов

9.9. Ионно-плазменное нанесение тонких пленок керамических сверхпроводников

9.10. Нанесение магнитных материалов методом ионно-плазменного распыления

9.11. Ионно-стимулированное, ионно-лучевое напыление тонких пленок

Литература

Учебно-методические пособия