Исследование процессов ионной обработки материалов и ионноплазменного распыления материалов

Методические указания к лабораторным работам

Целью данных лабораторных работ является изучение процесса ионной обработки материалов, выяснение механизма ионного травления, расчеты параметров ионного травления; детальное рассмотрение триодной системы ИПР с целью изучения ее принципа конструирования, электрофизических характеристик. Предназначено для студентов очной и заочной форм, обучающихся по направлению 11.04.04 «Электроника и наноэлектроника» по дисциплине «Процессы лазерной и электронно-ионной обработки» и направления 12.04.03 – «Фотоника и оптоинформатика» по дисциплине «Лазерные и электронно-ионные технологии фотоники».

Кафедра электронных приборов

Библиографическая запись:

Орликов, Л. Н. Исследование процессов ионной обработки материалов и ионноплазменного распыления материалов: Методические указания к лабораторным работам [Электронный ресурс] / Л. Н. Орликов. — Томск: ТУСУР, 2019. — 32 с. — Режим доступа: https://edu.tusur.ru/publications/9110
Автор:   Орликов Л. Н.
Год издания: 2019
Количество страниц: 32
Скачиваний: 19

Оглавление (содержание)

Лабораторная работа 1. ИССЛЕДОВАНИЕ ПРОЦЕССА ИОННОЙ ОБРАБОТКИ МАТЕРИАЛОВ ...... 5

1 Введение .................................................................................................................................. 5

2 Теоретическая часть ................................................................................................................ 5

2.1. Модели ионного распыления ................................................................................................ 5

2.2 Эффективность ионного распыления ..................................................................................... 6

2.3 Скорость распыления материалов .......................................................................................... 9

2.4 Влияние рода газа на травление ............................................................................................. 9

2.5 Скорость осаждения пленок при ионном распылении ........................................................... 10

2.6 Вольт-амперная характеристика газоразрядного устройства для обработки материалов.................................................................................................................................... 10

2.7 Контрольные вопросы ............................................................................................................. 11

3 Экспериментальная часть ........................................................................................................... 12

3.1 Вакуумное оборудование ........................................................................................................ 12

3.2 Электронное оборудование ..................................................................................................... 13

3.3 Порядок выполнения работы и методические указания .......................................................... 14

3.4 Вопросы для самопроверки ...................................................................................................... 15

3.5 Содержание отчета .................................................................................................................... 16

Лабораторная работа 2. ИССЛЕДОВАНИЕ ПРОЦЕССА ИОННОПЛАЗМЕННОГО РАСПЫЛЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ ...... 17

1 Введение ...................................................................................................................................... 17

2 Теоретическая часть ..................................................................................................................... 17

2.1 Плазма и ее свойства ................................................................................................................. 17

2.2 Ионизация газов ......................................................................................................................... 19

2.3 Ионно-плазменное распыление .................................................................................................. 20

2.4 Основные требования к оборудованию для ионно-плазменного распыления ............................ 22

2.5 Электрофизические параметры систем ионно-плазменного распыления ................................... 23

2.6 Контрольные вопросы ................................................................................................................. 25

3 Экспериментальная часть ................................................................................................................ 25

3.1 Задание на работу ........................................................................................................................ 25

3.2 Описание лабораторной установки ............................................................................................... 26

3.2.1 Устройство триодной системы ИПР ............................................................................................. 26

3.2.2 Вакуумная система установки ..................................................................................................... 27

3.3 Порядок выполнения работы и методические указания ................................................................ 28

3.4 Содержание отчета ......................................................................................................................... 30

Рекомендуемая литература .................................................................................................................. 30