Исследование процесса ионно-плазменного распыления материалов

Методические указания к лабораторной работе

Целью данной работы является детальное рассмотрение триодной системы ИПР с целью изучения ее принципа конструирования, электрофизических характеристик. Предназначено для студентов очной и заочной форм, обучающихся по направлению «Фотоника и оптоэлектроника» по курсу «Основы технологии оптических материалов и изделий» и по направлению «Электроника и микроэлектроника» (специальность «Электронные приборы и устройства») по курсу «Технология материалов и изделий электронной техники».

Кафедра электронных приборов

Библиографическая запись:

Орликов, Л. Н. Исследование процесса ионно-плазменного распыления материалов: Методические указания к лабораторной работе [Электронный ресурс] / Л. Н. Орликов. — Томск: ТУСУР, 2012. — 19 с. — Режим доступа: https://edu.tusur.ru/publications/1342
Автор:   Орликов Л. Н.
Год издания: 2012
Количество страниц: 19
Скачиваний: 8

Оглавление (содержание)

1 Введение

2 Теоретическая часть

2.1 Плазма и ее свойства

2.2 Ионизация газов

2.3 Ионно-плазменное распыление

2.4 Основные требования к оборудованию для ионно-плазменного распыления

2.5 Электрофизические параметры систем ионно-плазменного распыления

2.6 Контрольные вопросы

3 Экспериментальная часть

3.1 Задание на работу

3.2 Описание лабораторной установки

3.2.1 Устройство триодной системы ИПР

3.2.2 Вакуумная система установки

3.3 Порядок выполнения работы и методические указания

3.4 Содержание отчета

Рекомендуемая литература