Сайты ТУСУРа

Исследование процесса ионной обработки материалов

Методические указания к лабораторной работе для студентов направления 210100.62 – Электроника и наноэлектроника

Целью настоящей работы является изучение процесса ионной обработки материалов, выяснение механизма ионного травления, расчеты параметров ионного травления. В ходе выполнения работы у студентов формируются: - способность строить простейшие физические и математические модели приборов, схем, устройств и установок электроники и наноэлектроники различного функционального назначения, а также использовать стандартные программные средства их компьютерного моделирования (ПК-19); - способность аргументировано выбирать и реализовывать на практике эффективную методику экспериментального исследования параметров и характеристик приборов, схем, устройств и установок электроники и наноэлектроники различного функционального назначения (ПК-20).

Кафедра электронных приборов

Библиографическая запись:

Орликов, Л. Н. Исследование процесса ионной обработки материалов: Методические указания к лабораторной работе для студентов направления 210100.62 – Электроника и наноэлектроника [Электронный ресурс] / Л. Н. Орликов. — Томск: ТУСУР, 2013. — 18 с. — Режим доступа: https://edu.tusur.ru/publications/3435
Автор:   Орликов Л. Н.
Год издания: 2013
Количество страниц: 18
Скачиваний: 57

Оглавление (содержание)

1 Введение

2 Теоретическая часть

2.1. Модели ионного распыления

2.2 Эффективность ионного распыления

2.3 Скорость распыления материалов

2.4 Влияние рода газа на травление

2.5 Скорость осаждения пленок при ионном распылении

2.6 Вольт-амперная характеристика газоразрядного устройства для обработки материалов

2.7 Контрольные вопросы

3 Экспериментальная часть

3.1 Вакуумное оборудование

3.2 Электронное оборудование

3.3 Порядок выполнения работы и методические указания

3.4 Вопросы для самопроверки

3.5 Содержание отчета

Список литературы