Сайты ТУСУРа

Исследование процесса ионной обработки материалов

Методические указания к лабораторной работе

Целью настоящей работы является изучение процесса ионной обработки материалов, выяснение механизма ионного травления, расчеты параметров ионного травления. В ходе выполнения работы у студентов формируются: способность строить простейшие физические и математические модели приборов, схем, устройств и установок электроники и наноэлектроники различного функционального назначения, а также использовать стандартные программные средства их компьютерного моделирования; способность аргументировано выбирать и реализовывать на практике эффективную методику экспериментального исследования параметров и характеристик приборов, схем, устройств и установок электроники и наноэлектроники различного функционального назначения. Предназначено для студентов очной и заочной форм, обучающихся по направлению «Электроника и наноэлектроника» по дисциплине «Основы вакуумных технологий».

Кафедра электронных приборов

Библиографическая запись:

Орликов, Л. Н. Исследование процесса ионной обработки материалов: Методические указания к лабораторной работе [Электронный ресурс] / Л. Н. Орликов — Томск: ТУСУР, 2018. — 18 с. — Режим доступа: https://edu.tusur.ru/publications/7414
Автор:   Орликов Л. Н.
Год издания: 2018
Количество страниц: 18
Скачиваний: 96

Оглавление (содержание)

1 Введение 5

2 Теоретическая часть 5

2.1. Модели ионного распыления 5

2.2 Эффективность ионного распыления 6

2.3 Скорость распыления материалов 9

2.4 Влияние рода газа на травление 9

2.5 Скорость осаждения пленок при ионном распылении 10

2.6 Вольт-амперная характеристика газоразрядного устройства для обработки материалов 10

2.7 Контрольные вопросы 11

3 Экспериментальная часть 12

3.1 Вакуумное оборудование 12

3.2 Электронное оборудование 13

3.3 Порядок выполнения работы и методические указания 14

3.4 Вопросы для самопроверки 15

3.5 Содержание отчета 16

Список литературы 16