Изучение вакуумметрического метода нанесения проводящих и резистивных покрытий

1 Введение

2. Теоретическая часть

2.1 Методы получения тонких пленок

2.2 Нанесение тонких пленок путем термического испарения в вакууме

2.2.1 Этапы процесса нанесения пленок

2.2.2 Испарение вещества в вакууме

2.2.3 Взаимодействие потока испаренных атомов в пролетном пространстве

2.2.4 Конденсация атомов на подложке

2.3 Распределение испаряемого вещества по плоской подложке

2.3.1 Факторы и условия, определяющие толщину пленки

2.3.2 Расчет толщины наносимой пленки в случае точечного испарителя

2.3.3 Расчет толщины наносимой пленки в случае поверхностного испарителя

2.4 Измерение толщин тонких пленок

2.5 Контрольные вопросы

3 Экспериментальная часть

3.1 Оборудование

3.2 Задание

3.3 Порядок выполнения работы и методические указания

3.4 Содержание отчета

Список литературы

Приложение Методика работы с вакуумметром ВИТ-2