Физические основы нанотехнологий фотоники и оптоинформатики

Методические указания к лабораторной работе

Пособие содержит методические указания по выполнению лабораторных работ: «Измерение параметров вакуумной системы на ЭВМ в реальном режиме времени», «Моделирование условий формирования окисных пленок легкоплавких металлов» и «Сервисное обслуживание вакуумной установки УВН 2М-1».

Кафедра экономической математики, информатики и статистики

Библиографическая запись:

Орликов, Л. Н. Физические основы нанотехнологий фотоники и оптоинформатики: Методические указания к лабораторной работе [Электронный ресурс] / Л. Н. Орликов. — Томск: ТУСУР, 2012. — 75 с. — Режим доступа: https://edu.tusur.ru/publications/2978
Автор:   Орликов Л. Н.
Год издания: 2012
Количество страниц: 75
Скачиваний: 15

Оглавление (содержание)

Введение

Лабораторная работа 1. Спектрометрия газовыделения из кристаллов

1 Введение

2 Теоретическая часть

2.1 Определение спектрометрии

2.2 Спектральный анализ

2.3 Спектральные приборы

2.4 Цветовая система RGB

2.5 Контрольные вопросы по теории

3 Экспериментальная часть

3.1 Оборудование

3.1.1 Оптическая часть

3.1.3 Вакуумная схема установки

3.1.4 Схема охлаждения

3.1.5 Схема устройства в вакуумной камере

3.1.6 Гидравлическая схема

3.1.7 Форвакуумный насос АВЗ – 20Д

3.2 Задание

3.3 Содержание отчета

Лабораторная работа 2. Молекулярная эпитаксия

Введение

2 Теоретическая часть

2.1 Понятие эпитаксии, виды эпитаксий

2.2 Виды эпитаксий

2.3 Теория кинетики процесса эпитаксии

2.4 Формирование эпитаксиальных пленок путем термического испарения в вакууме

2.4.1 Этапы процесса нанесения пленок

2.4.2 Испарение вещества в вакууме

2.4.3 Взаимодействие потока испаренных атомов в пролетном пространстве

2.5 Конденсация атомов на подложке

2.6 Распределение испаряемого вещества по плоской подложке

2.6.1 Факторы и условия, определяющие толщину пленки

2.6.2 Расчет толщины наносимой пленки в случае точечного испарителя

2.7 Контрольные вопросы

3 Экспериментальная часть

3.1 Оборудование

3.2 Задание

3.3 Порядок выполнения работы и методические указания

3.4 Содержание отчета

Лабораторная работа 3. Исследование процесса ионно-плазменного распыления материалов

1 Введение

2 Теоретическая часть

2.1 Плазма и ее свойства

2.2 Ионизация газов

2.3 Ионно-плазменное распыление

2.4 Основные требования к оборудованию для ионно-плазменного распыления

2.5 Электрофизические параметры систем ионно-плазменного распыления

2.6 Контрольные вопросы

3 Экспериментальная часть

3.1 Описание лабораторной установки

3.1.1 Устройство триодной системы ИПР

3.1.2 Вакуумная система установки

3.2 Задание на работу

3.3 Порядок выполнения работы и методические указания

3.4 Содержание отчета

Лабораторная работа 4. Исследование процесса электронно-лучевой обработки материалов в безмасляном вакууме

1 Введение

2 Теоретическая часть

2.1 Особенности процесса откачки

2.2 Средства для без масляной откачки газа

2.3 Электронно-лучевая обработка материалов

2.3.1 Выбор режимов обезгаживания деталей приборов

2.3.2 Особенности проведения техпроцессов для уменьшения влияния углеводородов

2.3.3 Выбор мощности электронного пучка

2.4 Контрольные вопросы

3 Экспериментальная часть

3.1 Оборудование

3.1.1 Вакуумное оборудование

3.1.2 Экспериментальная модель источника электронов

3.2 Задание на работу

3.3 Порядок выполнения работы и методические указания

3.4 Вопросы для самопроверки

3.5 Содержание отчета