Методические указания к лабораторной работе
Кафедра экономической математики, информатики и статистики
Библиографическая запись:
Оглавление (содержание)
Введение
Лабораторная работа 1. Спектрометрия газовыделения из кристаллов
1 Введение
2 Теоретическая часть
2.1 Определение спектрометрии
2.2 Спектральный анализ
2.3 Спектральные приборы
2.4 Цветовая система RGB
2.5 Контрольные вопросы по теории
3 Экспериментальная часть
3.1 Оборудование
3.1.1 Оптическая часть
3.1.3 Вакуумная схема установки
3.1.4 Схема охлаждения
3.1.5 Схема устройства в вакуумной камере
3.1.6 Гидравлическая схема
3.1.7 Форвакуумный насос АВЗ – 20Д
3.2 Задание
3.3 Содержание отчета
Лабораторная работа 2. Молекулярная эпитаксия
Введение
2 Теоретическая часть
2.1 Понятие эпитаксии, виды эпитаксий
2.2 Виды эпитаксий
2.3 Теория кинетики процесса эпитаксии
2.4 Формирование эпитаксиальных пленок путем термического испарения в вакууме
2.4.1 Этапы процесса нанесения пленок
2.4.2 Испарение вещества в вакууме
2.4.3 Взаимодействие потока испаренных атомов в пролетном пространстве
2.5 Конденсация атомов на подложке
2.6 Распределение испаряемого вещества по плоской подложке
2.6.1 Факторы и условия, определяющие толщину пленки
2.6.2 Расчет толщины наносимой пленки в случае точечного испарителя
2.7 Контрольные вопросы
3 Экспериментальная часть
3.1 Оборудование
3.2 Задание
3.3 Порядок выполнения работы и методические указания
3.4 Содержание отчета
Лабораторная работа 3. Исследование процесса ионно-плазменного распыления материалов
1 Введение
2 Теоретическая часть
2.1 Плазма и ее свойства
2.2 Ионизация газов
2.3 Ионно-плазменное распыление
2.4 Основные требования к оборудованию для ионно-плазменного распыления
2.5 Электрофизические параметры систем ионно-плазменного распыления
2.6 Контрольные вопросы
3 Экспериментальная часть
3.1 Описание лабораторной установки
3.1.1 Устройство триодной системы ИПР
3.1.2 Вакуумная система установки
3.2 Задание на работу
3.3 Порядок выполнения работы и методические указания
3.4 Содержание отчета
Лабораторная работа 4. Исследование процесса электронно-лучевой обработки материалов в безмасляном вакууме
1 Введение
2 Теоретическая часть
2.1 Особенности процесса откачки
2.2 Средства для без масляной откачки газа
2.3 Электронно-лучевая обработка материалов
2.3.1 Выбор режимов обезгаживания деталей приборов
2.3.2 Особенности проведения техпроцессов для уменьшения влияния углеводородов
2.3.3 Выбор мощности электронного пучка
2.4 Контрольные вопросы
3 Экспериментальная часть
3.1 Оборудование
3.1.1 Вакуумное оборудование
3.1.2 Экспериментальная модель источника электронов
3.2 Задание на работу
3.3 Порядок выполнения работы и методические указания
3.4 Вопросы для самопроверки
3.5 Содержание отчета
Процессы лазерной и электронно-ионной обработки
11.04.04 Электроника и наноэлектроника (Квантовая и оптическая электроника) Очная форма обучения, план набора 2017 г. План в архиве
Процессы лазерной и электронно-ионной обработки
11.04.04 Электроника и наноэлектроника (Квантовая и оптическая электроника) Очная форма обучения, план набора 2018 г. План в архиве