Технология приборов оптической электроники и фотоники

Введение

1. Подготовка к проведению технологического процесса

1.1 Получение материалов для приборов оптической и квантовой электроники

1.2 Типовой технологический процесс

1.3 Подобие технологических процессов

1.4 Законы регулирования параметров процесса

1.5 Групповые измерительные преобразователи

1.6 Пневматические устройства управления процессами

1.7 Уровни математического описания процесса

2. Технологичность изготовления приборов оптической электроники и фотоники

2.1 Технологичность процессов изготовления приборов оптической электроники и фотоники

2.2 Методы оценки параметров технологичности

2.3 Языки пользователя для программирования технологических процессов

2.3.1 Язык релейно-контактных символов

2.3.2 Язык Булевых уравнений

2.3.3 Языки типа: «Время – команда». «Время – параметр»

2.3.4 Язык управления типа «КАУТ»

2.3.5 Язык программирования измерительной аппаратуры SCPI20

2.3.6 Языки для программирования логических контроллеров

2.3.7 Язык LD

3. Технология получения высокого вакуума в производстве приборов оптической электроники и фотоники

3.1 Технологические вакуумные системы и установки

3.2 Типы вакуумных установок

3.3 Расчет вакуумных систем

3.4 Согласование откачных средств

3.5 Измерение парциальных давлений

3.6 Алгоритм включения и выключения типовых вакуумных установок с масляными средствами откачки

3.7 Практические рекомендации по поиску негерметичности вакуумных систем

4. Межфазные взаимодействия в технологии формирования приборов оптической электроники и фотоники

4.1 Межфазное равновесие процессов

4.2 Теплота, внутренняя энергия, энтальпия, энтропия, свободная энергия

4.3 Фазовая диаграмма

4.4 Применение теории межфазных взаимодействий при формировании высококачественных пленок

5. Технология подготовки поверхности оптических материалов к технологическим процессам (очистка)

5.1 Вакуумная гигиена и очистка материалов

5.2 Общая схема очистки материалов для приборов оптической электроники и фотоники

5.3 Электрофизические методы очистки

5.4 Контроль качества очистки

5.5 Ионное травление материалов

6. Методы формирования нанослоев для приборов оптической электроники и фотоники

6.1 Физико-химические процессы получения наноматериалов

6.2 Назначение и типы пленок

6.3 Методы получения пленок

6.4 Термовакуумное испарение пленок

6.5 Процессы термического испарения материалов

6.6 Электронно-лучевой метод формирования пленок

6.7 Магнетронное формирование пленок

6.8 Электродуговое формирование покрытий в вакууме

6.9 Формирование пленок с помощью ионных источников

6.10 Методы измерения параметров пленок

6.10.1 Резистивный метод измерения толщины пленок

6.10.2 Емкостной метод измерения толщины пленок

6.10.3 Оптический метод измерения толщины пленок

6.10.4 Ионизационный метод измерения толщины пленок

6.11 Экспресс методы сравнительного анализа толщины пленок

7. Процесс эпитаксиального выращивания структур для приборов оптической электроники

7.1 Понятие эпитаксии

7.2 Виды эпитаксий

7.3 Кинетика процесса молекулярно-лучевой эпитаксии

7.3.1 Теория кинетики процесса эпитаксии

7.4 Теория формирования эпитаксиальной пленки по Френкелю

7.5 Теория формирования пленки по Н.Н. Семенову

7.6 Фазовая диаграмма процесса роста эпитаксиальных пленок

7.7 Методы анализа эпитаксиальных структур

7.8 Растровая электронная микроскопия

8. Основы технологии изготовления приборов оптической электроники и фотоники

8.1 Технология приборов квантовой электроники

8.2 Технология одноэлектронных квантовых приборов

8.3 Устройства памяти

8.4 Технология формирования светоизлучающих структур

Заключение

Рекомендуемая литература