Сайты ТУСУРа
Нажимая кнопку «СОГЛАСЕН», Вы подтверждаете то, что  Вы проинформированы об использовании cookies на нашем сайте. Отключить cookies Вы можете в  настройках своего браузера. Подробнее
Для того, чтобы мы могли качественно предоставить Вам услуги, мы используем cookies, которые сохраняются на Вашем компьютере (Сведения о местоположении; ip-адрес; тип, язык, версия ОС и браузера; тип устройства и разрешение его экрана; источник, откуда пришел на сайт пользователь; какие страницы открывает и на какие кнопки нажимает пользователь; эта же информация используется для обработки статистических данных использования сайта посредством интернет-сервиса Яндекс.Метрика)

Физико-химические основы технологии электронных систем

Учебное методичесоке пособие

Настоящее учебно-методическое пособие является приложением к учебному пособию по курсу лекций «Физико-химические основы технологии электронных средств». В пособии рассмотрены типовые задачи по темам «Индексы граней кристаллов» и «Поверхностные процессы и явления», а также приведены варианты двух контрольных работ по всем основным разделам лекционного курса. Особое внимание уделяется методическим указаниям по выполнению тематических рефератов по всем основным темам курса. Пособие предназначено для студентов очной, заочной и дистанционной форм обучения по специальностям: «Проектирование и технология радиоэлектронных средств» и «Проектирование и технология электронно-вычислительных средств», а также может быть полезно для студентов смежных специальностей.

Кафедра радиоэлектронных технологий и экологического мониторинга

Библиографическая запись:

Чикин, Е. В. Физико-химические основы технологии электронных систем: Учебное методичесоке пособие [Электронный ресурс] / Е. В. Чикин. — Томск: ТУСУР, 2006. — 63 с. — Режим доступа: https://edu.tusur.ru/publications/1127
Автор:   Чикин Е. В.
Год издания: 2006
Количество страниц: 63
Скачиваний: 195

Оглавление (содержание)

Предисловие

1 Индексы граней кристаллов

2 Поверхностные процессы и явления

2.1 Поверхностное натяжение

2.2 Смачивание, адгезия

2.3 Адсорбция

3 Варианты контрольных работ

3.1 Контрольная работа No1

3.2 Контрольная работа No2

3.3 Методические указания по выполнению тематических рефератов

3.4 Темы рефератов

3.4.1 Термовакуумный метод получения тонких пленок

3.4.2 Нанесение тонких пленок методом ионного распыления

3.4.3 Методы получения защитных диэлектрических пленок

3.4.4 Химические и электрохимические методы осаждения металлических пленок

3.4.5 Физико-химические основы процессов обработки поверхностей полупроводниковых пластин

3.4.6 Методы создания полупроводниковых структур с заданными свойствами

3.4.7 Литографические процессы

Рекомендуемая литература


Похожие пособия