Сайты ТУСУРа

RIE Process Behavioral Models Based on Tree Ensembles and Neural Network

Статья в сборнике трудов конференции

The possibilities of using Tree Ensembles and Artificial Neural Networks for modeling the reactive ion etching process of deep trench etching in the silicon substrate are considered. Accurate and robust models based on Tree Ensembles and Artificial Neural Networks were developed in order to predict the trench depth.

Библиографическая запись: RIE Process Behavioral Models Based on Tree Ensembles and Neural Network / A. A. Popov [et. al.] // Электронные средства и системы управления: Материалы докладов XIII Международной научно-практической конференции (29 ноября – 1 декабря 2017 г.): в 2 ч. – Ч. 2. – Томск: В-Спектр, 2017. – С. 214-216.

Конференция:

  • Электронные средства и системы управления: XIII Международная научно-практическая конференция, посвященная 55-летию ТУСУРа
  • Россия, Томская область, Томск, 29 ноября-01 декабря 2017,
  • Международная

Издательство:

В-Спектр

Россия, Томская область, Томск

Научный руководитель:  Сальников А. С.
Год издания:  2017
Страницы:  214 - 216
Язык:  Английский
Индексируется в РИНЦ