Сайты ТУСУРа
Нажимая кнопку «СОГЛАСЕН», Вы подтверждаете то, что  Вы проинформированы об использовании cookies на нашем сайте. Отключить cookies Вы можете в  настройках своего браузера. Подробнее
Для того, чтобы мы могли качественно предоставить Вам услуги, мы используем cookies, которые сохраняются на Вашем компьютере (Сведения о местоположении; ip-адрес; тип, язык, версия ОС и браузера; тип устройства и разрешение его экрана; источник, откуда пришел на сайт пользователь; какие страницы открывает и на какие кнопки нажимает пользователь; эта же информация используется для обработки статистических данных использования сайта посредством интернет-сервиса Яндекс.Метрика)

Исследование структуры металл - диэлектрик - полупроводник

Руководство к лабораторной работе

В работе изучается емкость структур металл-диэлектрик-полупроводник, зависимость емкости этой структуры от приложенного напряжения, определяется знак и величина поверхностного заряда и тип проводимости полупроводниковой подложки. Руководство к лабораторной работе по курсу «Физические основы микро- и наноэлектроники» предназначено для студентов, обучающихся по направлению 11.03.03 - «Конструирование и технология электронных средств».

Кафедра конструирования узлов и деталей радиоэлектронной аппаратуры

Библиографическая запись:

Славникова, М. М. Исследование структуры металл - диэлектрик - полупроводник: Руководство к лабораторной работе [Электронный ресурс] / М. М. Славникова, М. М. Славникова, М. Н. Романовский. — Томск: ТУСУР, 2018. — 10 с. — Режим доступа: https://edu.tusur.ru/publications/7765
Год издания: 2018
Количество страниц: 10
Скачиваний: 258

Оглавление (содержание)

1. ВВЕДЕНИЕ 2

2. ВОЛЬТФАРАДНАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА МДП–СТРУКТУРЫ 5

3. МЕТОДИКА ЭКСПЕРИМЕНТА 7

4. ПОРЯДОК ВЫПОЛНЕНИЯ РАБОТЫ 9

5. КОНТРОЛЬНЫЕ ВОПРОСЫ 9

6. РЕКОМЕНДУЕМАЯ ЛИТЕРАТУРА 10



Похожие пособия