Учебное пособие
Библиографическая запись:
Оглавление (содержание)
1. Введение 6
2. Торможение и пробег электронов в твердом теле 8
3. Отражение электронов и вторичная эмиссия. Эмиссия электронов из твердого тела 14
4. Свечение твердого тела, возбуждаемое воздействием потока электронов 17
5. Рентгеновское излучение при электронной бомбардировке. 20
Характеристическое излучение 23
6. Физико-химические превращения при облучении электронами 27
7. Тепловые процессы при облучении пучком электронов 31
7.1. Изменение свойств материалов под действием электронной бомбардировки 35
8. Процессы торможения ионов в веществе 37
8.1 Потери энергии при торможении ионов в веществе 38
8.2 Пробег ионов 39
9. Процессы ионного (катодного) распыления 42
10. Вторичная ионно-электронная эмиссия 49
11. Химическое действие ионов 52
12. Корпускулярно-лучевые установки 54
12.1. Классификация корпускулярно-лучевых установок 54
13. Принцип устройства корпускулярно-лучевых установок 58
14. Корпускулярно-оптические системы 59
14.1. Электронно-оптические системы 62
14.2. Ионно-оптические системы 67
15. Извлечение ионов из плазмы и первичное формирование ионного пучка 70
16. Источники ионов 75
16.1. Общие требования и классификация ионных источников 75
16.2 Источники ионов газов 82
16.3 Источники ионов металлов и твердых веществ 85
16.4 Источники ионов с поверхностной ионизацией и электронным ударом 86
16.5 Плазменные источники ионов с использованием испарения чистых веществ 88
16.6 Плазменные источники ионов тугоплавких элементов с катодным распылением рабочего вещества 93
16.7 Источники ионов с использованием процессов диссоциации химических соединений твердых веществ 98
16.8 Источники ионов на основе вакуумного дугового разряда с расходуемым катодом 99
16.8.1 Широкоапертурный источник ионов металлов 99
16.8.2 Технологический источник для ионной имплантации “Радуга” 103
16.8.3 Источник MEVVA 104
16.8.4 Тип ионов 106
16.8.5 Универсальный ионно – плазменный источник 107
17. Взаимодействие лазерного излучения с веществом 111
17.1 Классификация процессов взаимодействия излучения с веществом 112
17.2 Классическое описание линейных оптических эффектов взаимодействия излучения с веществом 114
17.3 Cтруктуро– и фазопреобразование лазерно-имплантированных слоев 115
17.3.1 Структурные изменения в металлах при наносекундном лазерном воздействии 115
17.3.2 Кристаллизация расплава в условиях кипения 117
17.3.3 Создание аморфных поверхностных слоев. 117
17.4 Лазерная имплантация 118
17.5 Внедрение и массоперенос в зоне лазерного воздействия 119
СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ 122
Процессы лазерной и электронно-ионной обработки
11.04.04 Электроника и наноэлектроника (Квантовая и оптическая электроника) Очная форма обучения, план набора 2017 г. План в архиве
Процессы лазерной и электронно-ионной обработки
11.04.04 Электроника и наноэлектроника (Квантовая и оптическая электроника) Очная форма обучения, план набора 2021 г. План в архиве
Процессы лазерной и электронно-ионной обработки
11.04.04 Электроника и наноэлектроника (Квантовая и оптическая электроника) Очная форма обучения, план набора 2018 г. План в архиве
Процессы лазерной и электронно-ионной обработки
11.04.04 Электроника и наноэлектроника (Квантовая и оптическая электроника) Очная форма обучения, план набора 2019 г. План в архиве
Процессы лазерной и электронно-ионной обработки
11.04.04 Электроника и наноэлектроника (Квантовая и оптическая электроника) Очная форма обучения, план набора 2015 г. План в архиве