Основы технологии оптических материалов и изделий. Часть 1

Учебное пособие

В учебном пособии рассмотрены основы технологических процессов в производстве материалов и изделий электронной техники. В том числе кинетические, диффузионные и поверхностные явления и межфазные взаимодействия в технологических процессах; физические основы вакуумной, ионно-плазменной, электронно-лучевой и лазерной технологии; основы технологии изготовления приборов и устройств вакуумной, плазменной, твердотельной и микроэлектроники; основы автоматизации процессов производства оптических материалов и изделий и устройств; эксплуатация и сервисное обслуживание технологического оборудования. Большинство разделов содержит математические модели для инженерных расчетов. Пособие предназначено для студентов очной и заочной форм, обучающихся по направлению «Фотоника и оптоинформатика» по дисциплине «Основы технологии оптических материалов и изделий».

Кафедра электронных приборов

Библиографическая запись:

Орликов, Л. Н. Основы технологии оптических материалов и изделий. Часть 1: Учебное пособие [Электронный ресурс] / Л. Н. Орликов. — Томск: ТУСУР, 2012. — 88 с. — Режим доступа: https://edu.tusur.ru/publications/1345
Автор:   Орликов Л. Н.
Год издания: 2012
Количество страниц: 88
Скачиваний: 17

Оглавление (содержание)

Введение

1 Физико-химические основы технологических процессов в производстве материалов и изделий фотоники

1.1 Физико-химические процессы получения некоторых полупроводниковых кристаллических материалов

1.2 Физико-химические процессы производства диэлектрических материалов

1.3 Порошковая технология

1.4 Физико-химические процессы получения газообразных и жидких материалов

1.5 Подготовка материалов к технологическим операциям

1.6 Физико-химические процессы получения наноматериалов

1.7 Контрольные вопросы

2 Кинетические диффузионные и поверхностные явления и межфазные взаимодействия в технологических процессах

2.1 Уравнение состояния процесса

2.2 Кинетическое уравнение элементарного технологического процесса откачки газа

2.3 Кинетика термического испарения материалов в вакууме

2.4 Физико-химические процессы кинетики конденсации пленок

2.5 Поверхностные и диффузионные явления при проведении технологических операций

2.6 Диффузионные явления в технологических процессах

2.7 Диффузионное газовыделение

2.8 Поверхностная диффузия при формировании пленок

2.9 Объемная диффузия при легировании материалов

2.10 Определение механизма диффузии газов из материала

2.11 Межфазные взаимодействия в технологических процессах

2.12 Теплота, внутренняя энергия, энтальпия, энтропия, свободная энергия

2.13 Фазовая диаграмма

2.14 Применение теории межфазных взаимодействий при формировании высококачественных пленок

2.15 Кинетика процесса молякулярно-лучевой эпитаксии

2.16 Фазовая диаграмма процесса роста эпитаксиальных пленок

2.17 Контрольные вопросы

3 Физические основы вакуумной, ионно-плазменной, электронно-лучевой и лазерной технологии

3.1 Вакуумная технология

3.2 Технология получения вакуума

3.3 Измерение вакуума

3.4 Методы исследования вакуумных систем на герметичность

3.5 Физические основы электронно-лучевой и лазерной технологии

3.6 Физические основы ионно-лучевой технологии

3.7 Физические основы плазменной технологии

3.8 Применение потоков электронов ионов и плазмы в упрочняющих технологиях

3.9 Контрольные вопросы к главе 3

Список рекомендуемой литературы