Исследование влияния бомбардировки полупроводниковых подложек заряженными частицами на изменение их параметров
Статья в журнале
Приводятся результаты исследования влияния бомбардировки полупроводниковых подложек заряженными частицами в процессе напыления на их поверхность тонких пленок методом магнетронного распыления. Показано, что такая электронно-ионная бомбардировка подложек приводит к ухудшению их параметров, при этом применение магнитной отклоняющей системы способствует сохранению исходных параметров подложек.
Журнал:
- Нанотехнологии: разработка, применение - XXI век
- Радиотехника (Москва)
Библиографическая запись: Исследование влияния бомбардировки полупроводниковых подложек заряженными частицами на изменение их параметров: [Электронный ресурс] / Ю. С. Жидик [и др.] // Нанотехнологии: разработка, применение - XXI век. – 2018. – Т. 10. - №4. – С. 3-8. – DOI: 10.18127/j22250980-201804-01
Ключевые слова:
МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ ЭЛЕКТРОННО-ИОННАЯ БОМБАРДИРОВКА КАТОДОЛЮМИНИСЦЕНЦИЯ РАДИАЦИОННЫЕ ДЕФЕКТЫ.Индексируется в: